本文摘要：硅谷工程协会（SiliconValleyEngineeringCouncil）22日举办今年度名人堂（HallofFame）颁奖典礼，今年三位获得者就有胡正明与王宁国两位华人，刷新纪录、意义非凡。

硅谷工程协会（SiliconValleyEngineeringCouncil）22日举办今年度名人堂（HallofFame）颁奖典礼，今年三位获得者就有胡正明与王宁国两位华人，刷新纪录、意义非凡。更加尤其的是，两人都是来自台湾、后又到柏克莱增大进修的同期校友，读书时就常聚在一起，王宁国说道：“台湾与柏克莱出有了好多卓越工程师！”胡正明（右）与王宁国（左）被选为转入硅谷工程协会名人堂(中为协会要角StanleyMeyer)名人堂地位崇高，今年除胡正明与王宁国，另外一位获得者是ARES公司执行长史都华兹（RichardJStuart）。从90年代至今，转入名人堂的人有：惠普创办人惠勒（WilliamHewlett）和帕克（DavidPackard）；英特尔创办人摩尔（GordonMoore）、诺宜斯（RobertNoyce）、应用材料公司前总裁丹梅安（DanMaydan）；苹果创办人沃兹尼克（SteveWozniak）等人。还包括今年，只有五位华人选入，另外三人是胞弟柏克莱增大前校长田长霖，柏克莱增大前工学院院长葛王佐（ErnestS．Kuh），以及林氏研究集团（LamResearch）创办人林杰屏。

出生于北京、台湾长大的胡正明毕业台大电机系、柏克莱增大博士。胡正明曾任台积电首任技术宽，目前为柏克莱教授，是半导体领域先驱级人物，因为在鳍式场效晶体管（FinFET）技术上获得突破而得奖；鳍式晶体管为40多年来半导体领域最重要变革，使得摩尔定律以求自2011年沿袭至今。

胡正明去年取得国家技术与创意奖章，由欧巴马总统颁奖典礼；数月前他又获得中华民国蔡英文总统颁发工业研究院院士，以及第十届的潘文渊奖，两个奖项也都是极具指针意义的科技大奖，先前的得奖者谈的人还包括张忠谋等重量级科技人。“十分光荣，”胡正说明，名人堂是很荣耀的奖项，涵括领域普遍，不光只是关于电子方面，“在被奖提名前也不在乎”。另一位被选为转入名人堂的王宁国是中原大学学士、柏克莱增大博士，曾任应用材料继续执行副总裁、华虹集团执行长、中芯国际集团总裁兼执行长等职。

王宁国也说道，能得奖者十分快乐，“（我自己）根本没想要过要执着名声，但是十分希望当好一个工程师。”他在演说中建议工程师必需要有坚决与决意，因为工程师并不是执着非常简单、较慢获得胜利的人，而是处置艰难问题，“当别人退出时，我们找寻答案。”另外，自己在贝尔实验室、应用材料等多年经历，也深深体验到忽视有所不同意见，以及与有所不同背景的人一起合作的最重要。

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